业内专家称EUV光刻机十年内难以自研，真是这样吗？

EUV（极紫外）光刻机是突破5nm以下先进制程不可或缺的核心装备。目前，全球仅有ASML公司能够量产该设备，它本身也是美国、欧洲及亚洲等多个国家和地区顶尖技术力量协同集成的产物。

鉴于复杂的国际技术环境，已有国家将自研EUV光刻机提上日程。这项挑战的难度可谓空前，光刻机常被誉为“工业皇冠上的明珠”，而EUV技术又在传统DUV光刻机的基础上，将复杂度与精度提升了一到两个数量级，其单台售价通常高达2至4亿美元。

对于有国家立志攻克EUV，韩国媒体援引了汉阳大学材料科学教授安振浩的观点，他对此并不看好。这位教授认为，十年内开发出能够用于大规模芯片生产的EUV光刻机是不太可能的。

安振浩教授是科班出身的资深学者，近期刚获得韩国工程院大奖。即便如此，他依然对其他国家能否在2028年之前交付可量产的EUV光刻机表示怀疑。

他进一步指出，即便是尼康这样长期深耕光刻技术的行业巨头，也从未实现EUV的技术突破。他强调，“这不是能靠蛮力就能进入的领域。”

他还以ASML的成功为例，说明EUV的研发需要漫长的时间积累和紧密协作的生态系统支撑，其中就包括蔡司提供的顶级精密光学系统以及特殊的激光等离子体光源技术。

笔者的观察： 本以为这位教授会发表一些技术层面的深度剖析，没想到其论点也颇有些“网络喷子”的常见逻辑——用“尼康没搞成”来论证“别人也搞不成”，同时又拿“需要全球协同”作为论据。

这些话本身单独看没错，但论证链条并不严谨。尼康的失败并不能直接推导出其他研究体系的必然失败。况且，致力于自研的国家，其内部研究机构数量之众、合作网络之深，未必就弱于当初EUV研发时的多国联合模式。

这位教授显然对特定国家的EUV研发进展与具体技术路线缺乏深入了解，面对媒体采访只能泛泛而谈。本以为作为资深工程学者，面对此类话题必有高论，结果却令人有些失望。