Intel最近与全球第四大、中国台湾第二大晶圆代工厂联电(UMC)达成了新的合作协议,将共同推进3nm工艺代工。这也是继双方在12nm代工上联手攻关之后,又一次深度合作。
联电早在2017年就放弃了10nm及更先进工艺的竞争,专注于成熟制程,这一点与格芯(GlobalFoundries)类似。结果就是市场份额持续萎缩,2026年第一季度仅占3.9%,不仅被台积电(72.3%)甩开,也落后于三星(6.5%)和中芯国际(5.1%)。

Intel开启IDM 2.0战略后,与联电联手开发12nm FinFET工艺平台,利用位于美国亚利桑那州凤凰城Ocotillo园区的晶圆厂。
目前,该工艺的设计套件预计2026年内交付客户,2027年初完成流片,当年底实现量产,主要面向物联网、Wi-Fi芯片等市场。
如今双方再次携手3nm工艺,同样会使用Ocotillo园区的晶圆厂,但具体动用哪一座设施说法不一——有观点认为是成熟的Fab 12/22/32,也有消息指向最新的Fab 52。

在合作中,Intel将提供强大的制造能力,联电则贡献丰富的成熟工艺代工经验,包括客户资源。
通过这次合作,Intel可以更深入地熟悉代工市场和客户,联电则无需背负巨额投资就能踏入先进工艺战场。关于Intel与联电的后续进展,云栈社区将持续关注,欢迎广大开发者与科技爱好者一同交流。
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