“抛开经济性或良率不谈,纯粹从技术角度来看,中国制造商不再是追随者,而是竞争者。”
近日,TechInsights 半导体事业部高级副总裁崔正东(Jeongdong Choe)接受韩媒采访时表示,内存涨价热潮将持续 3-4 年,中国的技术追赶是关键变量。他认为,应该将中国视为竞争对手,而不是追随者。

在崔正东看来,尽管全球存储厂商正积极扩产,但 AI 数据中心带动的需求增长迅猛,可预见的未来内供需缺口仍将持续。
而中国存储厂商的快速技术追赶,是影响行业格局的关键变量。长鑫存储(CXMT)通过跳代工艺持续缩小技术差距;长江存储(YMTC)则在 NAND 闪存领域,实现了多项先进技术的商业化落地,进度领先行业头部厂商。
随着中国企业同步推进产能扩张,中长期存储市场的竞争将逐步加剧。
崔正东表示:“若当前存储需求为 100,实际供应能力仅约 85。尽管价格可能出现小幅波动,但高位价格水平将持续,支撑行业景气度延续 3-4 年。”
预计供应短缺将从 2027 年第三、第四季度开始逐步缓解。崔正东预计,到明年供应水平将达到需求的 90%-95%。而均衡市场通常需要供应超出需求的 2%-3%,因此卖方市场格局大概率仍将延续。
“AI 存储需求的增速不再是历史上的 1.2 倍或 1.4 倍,短期内直接飙升至 4-6 倍,” 崔正东指出,“每家厂商仅新建一两座晶圆厂,根本不足以满足这一需求。”

中国 DRAM 厂商跨代追赶
随着 DRAM 微缩逼近物理极限,中国厂商正在不断缩小技术差距。
长鑫存储近期正式宣布,已量产第五代(G5)DRAM 内存技术。
据芯硬件了解,长鑫内部的 DRAM 技术代际划分为 G1、G3、G4、G5。
其中,G1 对应 19nm 级,G3 对应 18nm 级,G4 对应 16nm 级。G5 则将关键微缩指标有源区半节距(AA half-pitch)缩小至 11.95nm,也就是 12nm 级。
“长鑫 G5 最初的内部路线图目标是 14nm 级,但近期产品披露显示已微缩至 12-13nm 级,” 崔正东分析称,“即便不使用极紫外(EUV)光刻设备,通过基于深紫外(DUV)的双重曝光(DPT)或四重曝光(QPT)技术,也能实现这一微缩水平。”
他补充道:“尽管运行特性、单元尺寸、芯片面积仍需进一步验证,但如果其官宣属实,长鑫相当于又跨越了 1-2 代工艺。”

NAND 领域中国已领先架构创新
在 NAND 闪存领域,中国的技术追赶速度更快。长江存储率先实现了基于混合键合的 Xtacking 架构商业化,将 NAND 单元阵列与外围电路分别在不同晶圆上制造后再键合,同时还应用了“无阶梯(Stair-Free)”架构,最大限度降低了高堆叠 NAND 的外围电路面积开销。
“抛开经济性与良率不谈,纯从技术角度看,中国厂商已不再是跟随者,他们是竞争者,” 崔正东强调,“随着 DRAM 和 NAND 领域的技术差距迅速缩小,中国企业的技术能力值得密切关注。”
芯硬件注:崔正东(Jeongdong Choe)是 TechInsights 的高级技术研究员(Senior Technical Fellow)。他拥有电子工程博士学位和超过 28 年的半导体行业经验,曾长期任职于 SK 海力士和三星电子。
他专注于半导体工艺、器件和架构的技术分析,在 DRAM、NAND/NOR 闪存、SRAM/逻辑及新兴存储器领域具有专长。他提出了“如果没有存储,就没有 AI”的观点以及存储器“超级周期”的概念,并定期撰写技术文章、发布和更新全球存储器技术路线图。

采访问答实录
Q:好久不见。今天我们邀请到了 TechInsights 的崔正东博士,欢迎您。
A:您好,很高兴再次做客。
Q:近期存储市场迎来非常景气的繁荣期。尽管下游市场存在一些争议,但 AI 投资热度依旧高涨。我们先从下游市场聊起。从历史上看,智能手机一直是内存的最大市场。如今,向 AI 领域的转变是否已成定局?
A:超过 50% 的存储需求已经转向 AI 领域。
Q:除了存储,功率半导体等元器件也在向 AI 和服务器领域倾斜。您如何看待当前的下游市场?目前存在两种对立观点:一方认为应当放缓发展速度,另一方主张在管控风险的同时继续激进投入,这些争议也直接影响了股价表现。
A:市场需求正在急剧飙升,尤其是数据中心与 AI 领域。消费者和企业对 ChatGPT 等服务以及云基础设施的使用量正呈指数级逐日增长。内存需求已达到供不应求的程度,导致 AI 服务商纷纷限制会话时长或上调价格。
此外,随着智能体 AI、高级推理、物理 AI 等形态兴起,数据处理需求持续超预期地增长。由于数据中心的内存需求无法满足,传统内存库存已被耗尽,DDR、LPDDR、HBM 全品类内存的价格涨幅均超过 80%。
如今的现实是,即便生产设施 100% 满负荷运转,市场仍处于供给不足状态。DRAM 供应缺口约为 10%-12%,NAND 也面临类似缺口,这一局面还将持续一段时间。
Q:也就是说需求为 100 的话,供应仅在 85% 左右?
A:当前供应仅能满足约 85% 的需求。这种短缺无法在 3-6 个月内解决,由于过去两三年行业低迷时期资本支出受到严重限制,新建产能从投资到落地产出,至少还需要 1.5-2 年时间。
因此许多分析师预计,未来两年左右,数据中心及通用内存领域的价格都将维持高位。
此外,AI 训练大量使用的 HBM 内存在过去一年价格始终居高不下,SK 海力士等厂商已经将常规 DRAM 产能分配给 HBM 生产,进一步加剧了标准 DDR 和 LPDDR 内存的短缺。
简而言之,需求依然巨大,供给端无法完全满足,这种情况在可预见的未来仍将持续。
Q:部分研究机构预测,这轮内存超级周期可能延续至 2030 或 2031 年。
A:价格走势与实际供给需要分开看待。虽然价格可能出现波动,但整体将稳定在远高于此前的水平,支撑行业在未来 3-4 年保持景气环境。目前在建晶圆厂的产能将在大约在 1 年后投放市场,可能引发价格小幅回调,但由于价格基数仍然很高,行业盈利能力将保持稳健。
Q:您如何看待需求端的变化?像 Anthropic、OpenAI 等大模型厂商技术迭代非常快,有人主张放缓节奏;黄仁勋等行业人士与政策制定者则认为,应当在管控风险的同时持续投入。您如何评估需求端的发展态势?
A:我完全认同黄仁勋的观点。呼吁放缓发展的声音主要来自 OpenAI 等,其担忧很大程度上源于 AI 向具备自主决策能力的智能体、物理形态演进过程中可能存在的风险。
这些问题应当通过监管与制度框架来解决。历史上人类对技术进步与便利的需求不断增长,这种需求无法人为叫停。正如社会不会从铁器时代倒退回石器时代一样,技术进步将在更完善的治理下持续推进,无需人为放慢发展节奏。
Q:有批评者指出,AI 数据中心虽能创造营收,但需要持续的天文数字资本投入,这引发了人们对其可持续性的担忧。此外,后进厂商认为,头部企业呼吁监管放缓发展的本质是“拉梯子”的行为。行业能否支撑这样的投资规模?
A:全球范围内,包括美国和韩国在内的各个国家,其股市估值、私人投资者、政府举措都在积极支持 AI 基础设施建设。由于 AI 基础设施已被各国列为国家优先级战略,因此资本投资支持很可能将继续与这些扩张计划保持一致。
Q:从供应端来看,过去三年存储厂商普遍没有激进投资,但如今正加速扩产。韩国本土厂商计划到 2030 年将晶圆投入量翻一番。美光、三星、SK 海力士、铠侠的资本支出情况如何?
A:资本开支强度极高,已接近营收的 30%-40%。我近期参观了美光博伊西工厂,两座大型晶圆厂正在快速建设中。三星和 SK 海力士也正在扩产,比如 SK 海力士在龙仁的半导体集群,以及通过 Solidigm 大连工厂扩大固态硬盘产能,同时还在评估美国建厂的可能。此外,铠侠也在扩产。
除了欧美韩厂商,中国厂商同样值得关注。在自主可控的政策支持下,长鑫存储与长江存储正积极扩建晶圆厂以提升本土内存产能。长鑫计划将市场份额从 12%-13% 提升至 20%-25%,在上海、北京布局多座晶圆厂;长江存储则在武汉扩产。
全球存储资本开支加速始于约两年前,这意味着早期产能将在明年下半年开始释放,对市场供给产生影响。后续产能落地还需要 3-4 年,但强劲的 AI 需求将消化这些新增产能,短期内不会出现结构性供过于求。5-6 年后可能重现供给过剩引发的行业下行,但这属于长期风险,目前不会影响短期市场展望。
Q:您预计当前供需失衡(供应仅满足 85% 需求)何时能缓解至 95% 左右?
A:到明年第三、第四季度,供应应该能达到需求的 90%-95%。
Q:90%-95% 是否属于市场均衡水平?
A:90%-95% 一般属于正常的运营状况。但由于积压订单持续存在,市场紧张状态可能再延续 1-2 个季度,从而使价格在明年保持坚挺。
Q:未来几年晶圆产能将持续增加,如果需求为 100,供应达到 100,是否就算达到平衡?
A:即使供应量达到需求的 100%,技术上来说仍然供不应求,真正的均衡需要供应量达到需求的 102% 至 103%。
但核心问题在于,厂商能否在 2-3 年内让供应达到 100% 的需求。AI 内存需求,尤其是 HBM 的需求,并非线性增长,而是呈指数级增长。短期内将增长 4 至 6 倍,而历史平均年增长率仅为 1.2 至 1.4 倍。每家公司新建一两座晶圆厂不足以满足这种需求变化。
Q:存储厂商与核心客户之间的长期供应协议(LTA)似乎越来越普遍,这类协议会如何影响存储周期?
A:长期供应协议有积极作用。历史上,短期季度合同模式容易引发订单突然取消或重复预订,导致价格剧烈波动。多年期长期协议能够稳定价格,保障客户获得可预期的供应,也让存储厂商能够更高效地规划生产排期。
Q:哪些层级的客户在签订这类长期供应协议?
A:主流 AI 芯片设计厂商与头部云厂商,都在签订这类多年期协议。
Q:韩国存储厂商今明两年盈利表现预计强劲,您认为明年营业利润率还会进一步提升吗?
A:由于供应短缺持续,明年营业利润率将维持当前水平,或小幅提升。但不同产品线表现分化,比如 HBM、通用 DRAM、企业级 SSD 差异明显。
以 HBM3E 为例,SK 海力士市占率超过 70%,三星约 12%-15%,美光约 10%。这一格局可能会持续到今年年底或明年年初。
即便 HBM4 在 2026 年底或 2027 年初推出,2027 年上半年 HBM3E 仍将是主力出货产品,支撑 SK 海力士的领先优势。
明年下半年,随着 HBM4 渗透率提升,三星市占率可能升至 25%-30%。三星正大力投资 HBM4E 的研发,目标客户包括英伟达和超大规模数据中心。因此,SK 海力士将在明年继续保持 HBM 领域的领先地位,而竞争格局到 2028 年可能会发生变化。
Q:占据市场领先地位,在商业上意味着什么?
A:在供不应求的市场中,领先地位意味着定价权与产能分配权。过去两年 SK 海力士占据这一位置,明年大概率仍将保持;但到 2028 年左右,三星可能重新获得战略主动权。
Q:您如何看待美光当前在存储与 HBM 领域的定位?
A:与三星类似,美光同样从标准 DDR5 和 LPDDR5 涨价中大幅受益,但其 HBM 出货量相对有限。
此外,SK 海力士已与台积电紧密合作生产芯片,三星则利用自身晶圆厂生产先进逻辑芯片。美光的处境更复杂,尽管 HBM3E 和部分 HBM4 产品的芯片由自研生产,但先进节点最终仍需依赖台积电。而台积电晶圆厂产能分配紧张,确保足够的芯片产能对美光而言是一个运营上的挑战。
Q:当前韩国、美国、中国内存厂商的技术能力对比如何?
A:在 DRAM 领域,韩国和美国厂商之间的工艺差距已基本缩小。在 10nm 后期节点,美光还落后近一代,但到 13nm、12nm 和 11nm 节点,三星、SK 海力士、美光的单元尺寸、特征尺寸、设计规则几乎完全一致,差距不到 0.1nm。从第五代 10nm 级节点开始(韩系称 1b、美光称 1β),三大厂商都已普及 DUV/EUV 光刻与高 K 金属栅极(HKMG)技术。
这种技术趋同让后来者得以快速缩小差距。值得注意的是,中国长鑫存储即便没有 EUV 光刻设备,也实现了与头部三大厂商同等水平的先进技术。目前长鑫的量产主力是 1z(G3)节点,但其最新发布的 G5 工艺平台,无需 EUV,仅通过 DUV 双重曝光或四重曝光技术就实现了 12-13nm 级微缩,相当于跨越了 1-2 代工艺。
NAND 闪存领域,长江存储在多项架构创新上处于领先。它是首家实现混合键合技术商业化的厂商,其 Xtacking 架构如今已被铠侠、三星、SK 海力士纷纷效仿。长江存储还率先量产 2TB QLC NAND 颗粒,并将“无阶梯(Stair-Free)”接触结构应用于超高堆叠 NAND,以降低外围电路开销。纯从技术角度看,长江存储已是直接的竞争对手,而非落后的跟随者。
Q:激烈的供给竞争是否会在未来引发新一轮存储价格战?
A:传统价格战不太可能出现,因为 AI 内存架构正呈现高度分层的特点。需求从 HBM 延伸至企业级 SSD、CXL 内存模组、GDDR,以及高带宽闪存(HBF)等高密度 NAND 方案。AI 工作负载在训练、推理、智能体系统中需要多样、专用的存储层级,不断扩大的市场需求将消化全球增长的供给。
Q:您如何看待地缘政治压力推动存储厂商在美国建厂的趋势?
A:美国政策鼓励本土半导体晶圆厂建设,这给全球供应商带来了压力。然而,海外晶圆厂建设需要更高的资本投入、更长的建设周期(通常是韩国的两倍)以及巨大的劳动力成本差异。即便有政府补贴,厂商也很难完全抵消这些成本差距。