2026年开春，一则消息在日本产业界引发了广泛关注。
作为日本精密制造的百年代表，尼康发布了2025财年业绩预告，预亏高达850亿日元，创下了公司历史上的最大亏损纪录。
根据尼康的解释，造成巨额亏损的核心原因是其3D打印机业务拖累。然而，另一个刺眼的数据更值得关注：在过去半年里，尼康的光刻机业务仅售出9台，且几乎全是面向成熟制程的设备。
对比来看，地球另一端的荷兰光刻机巨头ASML，仅高端EUV光刻机就在同期狂卖了20多台，总出货量高达160台。
9台对160台，这组数字的对比，清晰地勾勒出昔日霸主与当今王者之间的巨大鸿沟。
时间回到1980年代，那是尼康的黄金时代。它不仅在专业相机领域独占鳌头，更在半导体工业的心脏——光刻机领域登顶全球。其光刻机精度之高，曾被形容为“在富士山顶，精准命中东京街头的一枚缝衣针”。彼时，全球芯片巨头如英特尔、IBM、德州仪器等，都需为求得一台尼康光刻机而放下身段。尼康垄断了全球光刻机市场的半壁江山，而如今的巨头ASML在当时还只是一个在夹缝中求生的小玩家。
那么，尼康是如何从巅峰滑落的？关键转折点之一发生在2002年。
当时，全球光刻技术正卡在193nm干式光刻的瓶颈上，下一代光源研发停滞。时任台积电资深研发处长的林本坚，带着一个颠覆性的想法敲开了尼康的大门：在镜头与晶圆之间注入水，利用水的高折射率来突破波长极限，即后来被称为“浸没式光刻”的技术路线。
然而，这个极具前景的想法遭到了尼康高层的集体反对。从会长吉田庄一郎到技术负责人马立稔和，都认为将如此精密的透镜泡在水中是对光学工程的“亵渎”，并且质疑水汽和气泡可能带来的污染与报废风险。
更重要的是，尼康当时已在157nm干式光刻路线上投入了超过7亿美元。转变路线意味着此前的巨额投入可能打水漂。因此，尼康不仅拒绝了林本坚，甚至试图利用其行业影响力来“封杀”这个构想，要求台积电“管好”林本坚，不要“破坏行业共识”。
碰壁之后，林本坚转而飞往荷兰，找到了当时尚在艰难求生的ASML。ASML的技术灵魂人物马丁·范登布林克被这个想法深深吸引，并力排众议，将公司资源全部押注于此。
结果众所周知。2004年，ASML与台积电联合推出的浸没式光刻机横空出世，迅速横扫全球市场。尼康引以为傲的顶级光学镜头，在新的技术路线面前顿失锋芒，其高端光刻机市场的半壁江山就此拱手让人。
如果说错失浸没式技术是尼康遭遇的重创，那么其在下一代EUV（极紫外光）光刻机上的豪赌，则成为了压垮骆驼的最后一根稻草。
遭遇失败后，尼康并未气馁，而是将目光投向了被视为终极路径的EUV技术。此时已升任技术负责人的马立稔和，立志要全自研、全日本产业链打造EUV光刻机，试图以此重现日本精密制造的辉煌。
日本政府也将此视为“国运之战”，由经济产业省（METI）牵头，联合尼康、佳能、东京电子、信越化学等巨头，以及东京大学、京都大学等顶尖学府的专家，组建了庞大的“产官学”联盟，投入数百亿日元进行攻关。
这是一场典型的日本式冲锋：资源集中，目标单一。2012年，马立稔和升任常务执行董事，全面接管EUV项目，决心用金钱和意志砸开EUV的大门。
然而，世界已经变了。当尼康还在闭门攻关时，ASML已编织了一张覆盖全球的产业大网。同样在2012年，ASML获得了英特尔、三星、台积电三大客户的战略投资，组建了坚实的EUV联盟，并整合了德国蔡司（镜头）、美国Cymer（光源）等全球顶尖供应链。
更致命的是，出于战略考量，美国将尼康、佳能等日系厂商排除在EUV技术联盟之外，切断了其获取核心技术的通道。尼康的“全自研”在无形中变成了“闭门造车”。
至2018年，尼康在EUV项目上累计投入超千亿日元，却只换来一台无法商用的原型机。而此时，ASML的EUV光刻机早已在台积电的生产线上迭代多代。最终，马立稔和不得不痛苦地宣布：终止EUV光刻机的商业化开发。
尼康的失败，是一场本可避免的悲剧。当林本坚带着浸没式技术的蓝图前来时，尼康曾是首选的合作对象。但根深蒂固的傲慢与技术路径依赖，使其对体系外的新生事物产生了排斥。
错失第一次机遇后，尼康又陷入了对“全产业链自主”的盲目迷信，在EUV研发上选择了封闭的垂直整合模式，忽视了全球协作的产业趋势。如今，前方是ASML绝尘而去的背影，后方则有新兴势力正在蚕食其赖以生存的中低端市场。
2025年9月，尼康关闭了运营58年的横滨工厂，其光刻机业务进一步收缩。而年逾七旬的马立稔和也即将卸任。他的离去，标志着一个时代的落幕。
尼康的案例，是“加拉帕戈斯化”在科技产业的典型体现：在快速迭代的全球竞争中，最危险的往往不是技术上的暂时落后，而是心态上的傲慢与封闭，是拒绝向外看，最终将自己困进进化的孤岛。这个故事对于任何关注半导体工业与技术演进的人来说，都是一个深刻的镜鉴。
关于全球科技产业的兴衰与战略得失，云栈社区内常有深入的讨论与分析。
发表于 3 小时前
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