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发表于 5 小时前 | 查看: 5| 回复: 0

4月27日消息,台积电2纳米泄密案迎来重大判决。台湾地区智慧财产及商业法院今日依违反相关安全法规,判处台积电离职工程师陈力铭有期徒刑10年,全案可上诉。台积电对此回应,本次判决使公司珍贵的营业秘密与技术获得充分保护,未来将持续强化内部管理及监控机制。

除陈力铭外,同案在押工程师吴秉骏、戈一平分别被判处3年、2年有期徒刑,陈韦杰被判6年;日本半导体设备巨头TEL(东京威力科创)员工卢怡尹被判10个月、缓刑3年,并须向公库支付新台币100万元。TEL公司本身则被处以罚金1.5亿元新台币,缓刑3年,另须支付台积电1亿元、公库5000万元。

陈力铭被执法人员押解至法庭

台积电强调,对于任何违反公司保护营业秘密及损害利益的行为,始终采取零容忍态度,绝对从严处理、追究到底。除了本次工程师泄密案,去年11月台积电还曾爆发退休高管罗维仁涉嫌2纳米技术泄密事件。尽管台积电此前在声明中明确表达严惩立场,但与本案工程师获刑10年形成鲜明对比的是,备受关注的罗维仁案并未被彻底彻查,后续再无公开进展,案情至今悬而未决。

此类半导体关键技术的泄密风险,再次敲响产业安全警钟。若想与更多从业者探讨技术保护与行业合规议题,不妨移步至云栈社区交流。




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